装置の紹介[NPF]

【NPF034】集束イオンビーム加工観察装置(FIB)


名称 【NPF034】集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
メーカー 日立ハイテク
導入年月日
仕様 ガリウムイオンビームを集束/走査することで、SIM(Scanning Ion Microscopy) によるイオン励起二次電子像の観察を行いながら、任意の箇所でのナノサイズ・マイクロサイズのミリング加工や、イオンビームアシストによるタングステンの化学気相成長を行うことができる。そのほか同一真空チャンバー内にあるマニュピレータプローブと、SIM観察、ミリング加工、タングステン成長を組み合わせることで様々な作製プロセスが行うことができる。

・型式:FB-2100
・試料サイズ: 18mmφ以下, 高さ10mm以下
・イオン源:ガリウム液体金属イオン源
・加速電圧:2kV, 5kV, 10kV~40 kV (低加速電圧対応)
・像分解能:6 nm (SIM)
・ビーム径:3µm, 1.3µm, 600 nm, 320 nm, 120 nm, 60 nm, 10 nm
・イオンビーム電流:0.1nA~68nA (大電流対応)
・デポジションガス:タングステンカルボニル
・マニュピレータシステム:シングルプローブ
・試料ステージ制御:5軸チルトステージ
・ステージ傾斜角度:最大45°
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