装置の紹介[NPF]
【NPF024】抵抗加熱型真空蒸着装置
| 名称 | 【NPF024】抵抗加熱型真空蒸着装置 |
|---|---|
| メーカー | ビームトロン |
| 導入年月日 | |
| 仕様 | ボート等の抵抗体に金属や化合物などの成膜材料をセットし、通電加熱で蒸発させることにより、材料を基板上に成膜します。3種類の材料がセット可能なので多層膜の成膜も可能です。全て手動操作。高融点材料の成膜では、ソースからの輻射の影響が多くなり、条件によっては試料表面が100 ℃を超えるので注意を要します。 ・型式:KIS_3 ・試料サイズ:3インチφ以下 ・蒸着方式:抵抗加熱蒸発 ・蒸発源:3ポート ・加熱抵抗体:平板ボート、コイル、バスケット ・傾斜基板ホルダ:±15° ・蒸発源―基板間:250 mm ・試料導入:手動 ・真空排気:手動、到達圧力5×10^-5 Pa以下 ・成膜制御:手動（ 基板シャッター開閉及びヒーター電力調整） ・膜厚モニター:水晶振動子膜厚モニタ付 ・ソース材料: Al, Ag, Au, Fe, Ni, Cr, Cu, Ti |
