NPF:ナノプロセシング施設
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装置の紹介[NPF]
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装置の紹介[NPF]
【NPF114】平行平板型プラズマアッシャー
名称
【NPF114】平行平板型プラズマアッシャー
メーカー
ヤマト科学
導入年月日
2024-03-26
仕様
この装置は、平行平板型のプラズマ装置です。酸素プラズマを発生させることにより、フォトレジスト等の有機物をCO2とH2Oに分解・酸化させて除去するものです。
レジストの種類や、設定条件にもよりますが、数10nm/分程度、除去できます。
・型式: YAMATO MPC300
・高周波電源: 100~300W
・反応槽: 平置き、最大6インチ
・放電時間設定: 最大90分
・使用ガス: O2、パージ用N2ガス