装置の紹介[NPF]
【NPF104】原子層堆積装置_4[FlexAL]
| 名称 | 【NPF104】原子層堆積装置_4[FlexAL] |
|---|---|
| メーカー | オックスフォードインスツルメント |
| 導入年月日 | 2021-12-10 |
| 仕様 | 金属や半導体、誘電体材料のナノ薄膜の成膜をLyer by Layer で行うことができる原子層堆積装置です。反応ガスとして、膜中への水素の取り込まれ具合を評価し易くするためにD2, ND3が接続されています。また、in-situ 分光エリプソ が組み込まれているため成膜中の膜厚測定が可能となり、インキュベーションサイクルの導出や正確な成長速度の評価が一度の成膜プロセスで取得できます。新しい材料評価のためにプリカーサー材料の持ち込みも、ご相談の上可能となっています。 ・型式:FlexAL ・試料サイズ:8インチφ ・基板温度:100-550℃ ・プラズマALD:600W（誘導結合型） ・基板バイアス:100W ・反応ガス:H2O, O2, N2, H2, D2, NH3, ND3 ・材料ポート:3ポート ・キャリアガス:Ar ・膜厚計測用 in-situ 分光エリプソ |
