装置の紹介[NPF]
【NPF096】単波長エリプソメータ
| 名称 | 【NPF096】単波長エリプソメータ |
|---|---|
| メーカー | (株)溝尻光学工業所 |
| 導入年月日 | |
| 仕様 | 本エリプソメーターは、主に薄膜の膜厚や屈折率の測定に利用する装置です。サンプル表面に偏光された光を入射させ、その反射光の偏光状態を計測することにより膜厚や屈折率の算出を行います。代表的な利用方法はシリコンウエハ上に成膜したSiO2膜の膜厚測定で、非破壊・非接触で比較的簡便に膜厚(SiO2膜が透明で光吸収が無いと仮定した場合)を計測することが可能です。 ・型式:DHA-XA2M ・試料サイズ:4インチφ ・光源:He/Neレーザー(632.8nm) ・測定方式:回転検光子法 ・入射角度:55°~75° |
