装置の紹介[NPF]

【NPF093】高速電子ビーム描画装置（エリオニクス）

名称	【NPF093】高速電子ビーム描画装置（エリオニクス）
メーカー
導入年月日
仕様	本装置は細く絞った電子ビームをレジストを塗布した基板に照射し、微細な露光パターンを形成するための装置です。加速電圧が130kVであるため非常に微細なパターン（5 nm）を描画することができます。クロック周波数が100 MHzであるため、高速描画が可能です。描画エリアは8インチサイズですが、12インチウエハーをセットすることが可能です。・型式:ELS-F130AN ・試料サイズ:～12インチφ、9インチ□のマスクブランクス・電子銃:ZrO/W熱電界放射型・加速電圧:130kV, 100kV, 50kV, 25kV ・最小ビーム径:1.7nm (@ 130kV) ・最小描画線幅:5nm (@ 130kV) ・最大スキャンクロック:100MHz ・ビーム電流強度:5pA～100nA ・フィールドサイズ:100μm □、250μm□、500μm□、1000μm□(100kV以下)、1500μm□(50kV以下)、3000μm□ (25kV以下) ・ビームポジション:1,000,000×1,000,000 (20bit DAC) ・位置決め分解能:0.1nm ・つなぎ精度:±10nm ・重ねあわせ精度:±15nm ・描画可能エリア:210mm×210mm