NPF:ナノプロセシング施設
本文へ移動する
メニュー
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
ナノプロセシング施設
装置の紹介
ご利用手順
各種資料
アクセス方法
お問い合わせ
メニュー
閉じる
ナノプロセシング施設
装置の紹介
ご利用手順
各種資料
アクセス方法
お問い合わせ
サブメニュー
質問集
プライバシーポリシー
リンク集
産総研ARIMポータルへ
NPFホーム
ポータルサイトに戻る
ホーム
>
装置の紹介[NPF]
ログイン/マイページ
装置の紹介[NPF]
【NPF091】自動塗布現像装置
名称
【NPF091】自動塗布現像装置
メーカー
株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
導入年月日
2019-10-01
仕様
フォトレジスト専用の自動レジスト塗布・現像装置です。
・型式:RCDA 4100
・試料サイズ:3インチφ , 4インチφ オートローダー仕様
・塗布レシピ数:28
・現像レシピ数:46
・レジスト:i線用2系統(住友化学 PFI-38A7 , 住友化学 PFI-89B4)
・現像液:TMAH 2.38%(多摩化学 TMAH 2.38%)