NPF:ナノプロセシング施設
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装置の紹介[NPF]
【NPF010】反転露光用全面UV照射装置
名称
【NPF010】反転露光用全面UV照射装置
メーカー
共和理研
導入年月日
仕様
ポスト露光によるポジネガ反転露光にご利用いただけます。
・型式:K-310P100S
・試料サイズ:小片基板~4インチφ
・露光領域:最大85mm□
・露光源:ウシオ電機マルチライト 超高圧水銀ランプ
・主波長:365nm(i線)
・照度:約32mW/c㎡
・露光モード:コンタクト方式