12:55-13:00

 はじめに　　

産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設（NPF）　松本 壮平

13:00-13:40

「大日本科研のマスクレス（Point Array方式）のご紹介」

株式会社大日本科研　澤頭　尚志

13:40-14:20

「マスクレス露光装置と応用例のご紹介」

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社　池内 真次

14:20-15:00

「マスクレス露光装置 DLシリーズ の高スループット化」

株式会社ナノシステムソリューションズ　杉村　忍

15:00-15:20

休憩

15:20-15:40

「ＮＩＭＳが提供するマスクレス露光装置」

物質・材料研究機構 微細加工ユニット　渡辺 英一郎

15:40-16:00

「EB露光装置とマスクレス露光装置のMix and Match」

東京科学大学 梅本高明

16:00-16:20

「レーザー描画装置を用いた二層レジスト露光とその応用」

北海道大学　松尾保孝

16:20-16:40

「マスクレス露光機 MLA１５０の公開について」

産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設　郭　哲維