【紹介内容】
・大日本科研（ＤＮＫ）の会社紹介
・マスクレス露光機の開発の背景
・ＰｏｉｎｔＡｒｒａｙ方式の概要説明
・高分解能、且つ、高速露光の仕組み
・つなぎ目（Stich箇所）の仕組み
・マスクレス露光機の課題とテーマ
・露光結果のご紹介（厚膜/薄膜）
・デジタル露光の応用と実用展

ハイデルベルグインストルメンツ社は高精度レーザーリソグラフィーシステム、マスクレスアライナー、ナノファブリケーションツールの設計、開発、製造をおこなっています。
R&D、ラピッドプロトタイピング、少量生産向けののマスクレスアライナー(MLA150,μMLA)および高解像度の直接描画パターンジェネレータであるDWL66+について応用例とともにご紹介します。

ナノシステムソリューションズ製マスクレス露光機の概要と独自技術についてご紹介します。今回、新規に2.5KのDMDを採用することにより、1ショットサイズが拡大し、露光速度を飛躍的に向上させることができました。
2025年度にNPF様に導入させて頂き、公開利用いただく運びとなりましたので、ぜひご活用ください。弊社の高スループットマスクレス露光装置が、研究開発の加速にお役に立てば幸いです。

NIMS微細加工共用施設は、レーザー直接描画方式（ハイデルベルグ・インストルメンツ社製：DWL66+）およびDMD露光方式（ナノシステムソリューションズ社製：DL1000, ハイデルベルグ・インストルメンツ社製：MLA150）のマスクレスフォトリソグラフィ装置を提供しています。本発表では各装置の仕様や特徴についてご紹介いたします。

ARIM技術研修プログラムにおいて「EB露光装置とマスクレス露光装置のMix and Match」をテーマに実習を行いましたのでその内容を紹介したいと思います。EB露光で描いたパターンを金蒸着し、マスクレス露光でパターンを重ねる工程になります。また所有しているマスクレス露光装置 MX1205（大日本科研）の自号機重ね精度やEB露光装置との重ね精度等についても紹介します。