装置の紹介[NPF]
【NPF001】電子ビーム描画装置（CRESTEC）
| 名称 | 【NPF001】電子ビーム描画装置（CRESTEC） |
|---|---|
| メーカー | クレステック |
| 導入年月日 | |
| 仕様 | 細く絞った電子線を感光性レジストを塗布した試料表面に照射し、現像処理によって微細パターンを形成(描画)するための装置です。試料は最大6インチ基板まで扱えます。電子線走査範囲は一辺が100 μm～1 mmの正方形で、描画方式により若干異なりますが、画素数を4000～60000ドットの範囲内から選択できます。 ・型式:CABL-9410TFNA ・試料サイズ:6インチφ×4.6 mm(高さ) ・電子銃:熱電界放射型ZrO/Wエミッタ ・最小スポット:2 nmφ(加速電圧50 kV) ・描画可能な最小線幅:10 nm(レジスト膜厚100 nm) ・走査方式:ベクター走査、ラスター走査 ・走査領域:最大1 mm□ ・つなぎ合わせ描画領域:最大150 mm□ ・つなぎ合わせ精度:50 nm以下 ・重ね合わせ精度:50 nm以下 |
