装置の紹介[NPF]
【NPF041】ウェハー酸化炉
| 名称 | 【NPF041】ウェハー酸化炉 |
|---|---|
| メーカー | マテルス |
| 導入年月日 | |
| 仕様 | この装置は、シリコンウエハーの熱酸化膜形成や熱処理に用います。横型の熱処理炉で、試料室内部はドライまたはウェットな酸素ガス雰囲気、もしくは不活性ガス(窒素)雰囲気にて熱処理を行うことができます。炉内温度は1200 ℃まで加熱することができます。縦置きホルダーを利用すれば4インチウェハを一度に25枚まで処理することができます。尚、炉心管の汚染防止のため金属の付いた試料やSi以外の基板は使用禁止とします。 ・型式:MAT-200KS ・試料サイズ:最大4インチφ×25枚(長さ150 mm) ・ヒーター:カンタルRAC200,220L×3ゾーン ・常用温度:1100 ℃（到達時間:2時間） ・温度分布:1100 ℃±2 ℃(範囲長さ200 mm) ・炉心管:石英、136 mmΦ×長さ1090 mm ・試料室:ドライ、ウェット雰囲気 ・使用ガス:O2, N2, H2O |
