装置の紹介[NPF]

【NPF109】6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック)


名称 【NPF109】6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック)
メーカー アールデック
導入年月日 2021-12-10
仕様 蒸着源を電子ビーム照射による加熱で溶融・蒸発させ、対向する試料へ所望の厚さにて成膜することができる。蒸着源は6ポートで連続した異種材料の積層を行うことができます。試料導入はロードロックを介して自動で搬送され、成膜プロセス完了まですべて自動で制御されます。

・型式:ADS-E86
・試料サイズ:8インチφ
・蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発
・蒸発源:6連装(6 kW)
・クルーシブル容量:12 ml
・基板ホルダ:冷却機構付(水冷)
・蒸発源―基板間:500 mm
・試料導入:ロードロック自動搬送
・真空排気システム:到達圧力1×10^-5 Pa以下、オイルフリー、自動排気
・成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御
・膜厚分布:10 %以内@200mm
・常設ソース材料: Ti, Cr, Au, Cu, Al,
ポータルへ戻る