装置の紹介[NPF]
【NPF099】サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP]
| 名称 | 【NPF099】サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP] |
|---|---|
| メーカー | サムコ |
| 導入年月日 | 2021-12-10 |
| 仕様 | 本装置は、誘導結合(Inductively Coupled Plasma:ICP)方式によるリモートプラズマ、もしくはダウンフロープラズマによるプラズマALD成膜が可能な原子層堆積装置です。反応ガスとして、ピュアオゾンが接続されており、100℃前後の低温での高品質な成膜がサーマルALDで可能です。プリカーサは、TMA, BDEASを用意しており、AlもしくはSiの酸化物、及び窒化物の成膜が可能です。 ・型式: AD100-LP (サムコ株式会社) ・試料サイズ:4インチ（2インチは3枚まで搭載可能） ・ステージ温度：50 ～ 500℃ ・放電方式: 誘導結合式ICPプラズマ（ダウンフロー型、リモート型） ・ICP高周波電源: 300W（13.56MHz） ・試料導入方式: ロードロック式 ・キャリアガス:N2 ・反応ガス:H2O, O2、ピュアオゾン, N2、NH3、H2、Ar ・材料ガス:TMA,BDEAS |
