講演プログラム
- 13:30-13:35
- 開会挨拶
物質・材料研究機構 今中 康貴
- 13:35-14:00
- 「電子ビーム露光の基礎」
電子ビーム露光の特徴、電子ビーム露光装置の概要と、最近使われ始めたマルチビーム機などによる高速化への手法、つなぎ露光とメンテナンスの必要性などについて説明する。
東京工業大学 宮本 恭幸
- 14:00-14:25
- 「電子ビーム及びレーザー描画による3次元構造物作製のための、描画データ最適化手法のご紹介」
回折光学素子やマイクロレンズなど、微小3次元構造物をリソグラフィーにて作成する需要が昨今高まっている。ガウスビーム同士の重なりや散乱現象が起こる状況でのこうした構造物の作成時には、時に多くの技術的知見や、繰り返し実験による経験を要する。本講演では、こうした3次元構造物作製を念頭においた、描画データ最適化の手法を紹介する。
GenISys株式会社 清水 諭
- 14:25-14:45
- 「電子線描画による三次元構造作成技術」
DOE（回折光学素子）やマイクロレンズなどの微細な三次元構造を電子線描画装置とBEAMERで作成するための作業手順や、注意すべき点などを説明します。また、実際の加工例についても紹介します。
Bush Clover株式会社 新関 嵩
- 14:45-15:05
- 「DWL66+ レーザー描画装置によるパターン形成技術の紹介」
バイナリー露光、グレースケール露光での露光事例を紹介します。特にグレースケール露光では、レジスト及び現像液の違いによるパターン形成の違いとマイクロレンズアレイ、DOEパターン（回折光学素子）の描画事例を紹介します。
産業技術総合研究所 杉山 和義
- 15:05-15:15
- 「北海道大学の共用施設・技術紹介」
北海道大学 松尾 保孝
- 15:15-15:25
- 「NIMSの共用施設・技術紹介」
物質・材料研究機構 渡辺 英一郎
- 15:25-15:30
- 「閉会挨拶」
物質・材料研究機構 津谷 大樹