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概要

産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF) は、「薄膜技術実践セミナーⅤ」を、2020年1月22日(水)産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。スパッタ成膜、プラズマCVD成膜、原子層堆積法(ALD)等、様々な成膜技術について、トピックスを交えて紹介いたします。オーサーズ・インタビューの時間を設けましたので、講演終了後に講師の先生に個別に質問をすることが可能です。

また、実習コースでは、NPFの装置を使用してSrTiO3誘電体薄膜形成とその結晶性・電気特性評価などを盛り込んだ機能性酸化物材料の開発のための基礎的なスキルを獲得していただけるコースを準備いたしました。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。 (※実習コースのみの参加はできません)

 

主催:産業技術総合研究所 TIA共用施設ステーション ナノプロセッシング施設(NPF)
共催:ナノエレクトロニクス計測分析技術 研究会(TSC)

講演

【日時】
令和2年1月22日(水)12:55~17:30
【場所】
産業技術総合研究所つくば中央2-12棟第6会議室
【参加費】
無料
【定員】
90名(先着順、参加登録をお願いします)
【セミナー案内/申込】
お申し込みはこちら
【講演プログラム】
https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2019-3/profile/index.html